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青島天仁微納科技有限責任公司
青島天仁微納科技有限責任公司成立于2015年,是引新的納米壓印設備和解決方案提供商。公司的核心競爭力是為客戶提供納米壓印整體解決方案。產品與服務涵蓋納米壓印相關的設備、模具、材料、工藝以及生產咨詢服務。我們致力于拓展納米壓印技術在創新產品領域的應用,例如發光二極管(LEDs)、微納機電系統(MEMs/NEMs)、虛擬現實和增強現實光波導(ARWaveguides)、3D傳感、生物芯片、顯示以及太陽能等。
PRODUCT CENTER

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Technical Information

技術資訊

  • AR衍射光波導加工工藝——讓增強現實走進視野的納米壓印藝術

    在增強現實(AR)眼鏡中,如何將微顯示器生成的圖像高效地耦合入、擴束并耦合出到人眼,是決定設備體積與視場角(FOV)的關鍵。衍射光波導憑借超薄平面結構、大視場及量產潛力,成為消費級AR眼鏡的主流光學方案。而AR衍射光波導加工工藝——特別是基于納米壓印(NIL)與全息光刻的微納圖形轉移技術,正是賦予這塊玻璃"分光魔力"的核心制造環節,是連接光學設計與可穿戴產品的納米級橋梁。AR衍射光波導通常包含輸入光柵與輸出光柵,周期為300nm~500nm,槽深數十至百余納米,占空比與側壁傾...

    2026

    6-21

  • 刻線成譜——衍射光柵加工工藝原理與工藝選型指南

    光柵加工工藝是指將周期性微細溝槽結構(制作于基板表面的成套精密制造流程,所制得產品稱為衍射光柵——分反射式與透射式,是光譜儀、單色儀、波長計及部分電信器件的核心色散元件。按工藝路線主要分為機械刻劃光柵、全息光刻光柵及全息+離子束刻蝕,不同工藝決定光柵的衍射效率、雜散光水平、鬼線強度及適用波段范圍。工作原理與典型工藝流程1.機械刻劃光柵工藝l在超精密金剛石刻劃機上,天然單晶金剛石刀具(刃口半徑可達數納米級)在鍍高反射金屬膜(Al、Au、Ag)或裸基板上,按設定節距(d=1/N,...

    2026

    6-14

  • 斜照分光——斜齒光柵加工工藝技術與選用要點

    斜齒光柵是指在光柵基板上加工的溝槽橫截面呈非對稱三角形、槽面(閃耀面)與基板法線呈特定閃耀角且槽脊連線通常與入射面垂直(經典)或在某些凹面/平面光柵中與光軸有小夾角(斜齒——"斜齒"在此指槽形為斜三角形齒而非直槽正弦形,區別于平行脊無閃耀),從而使某一衍射級次(通常+1或-1級)在特定波長λ_B獲得最大衍射效率。它是高效色散光柵的典型結構,廣泛用于單色儀、ICP-OES、拉曼光譜儀及天文光譜儀。所謂"斜齒光柵加工工藝"即指通過金剛石刻劃或全息+定向離子刻蝕在基板上形成具精確控...

    2026

    6-8

  • DOE加工工藝——賦予激光“智慧光束“的衍射光學制造術

    在激光加工、3D傳感、LiDAR及光通信系統中,往往需要把單一高斯光束變成特定圖案——均化光斑、平頂光、線光斑、多點陣列或隨機散斑。衍射光學元件正是實現這一"光束整形"的微型光學元件,其表面或內部刻有精心設計的正弦或二元相位光柵結構。DOE加工工藝通過微電子光刻與離子束刻蝕技術,將復雜的相位分布物理化為亞微米精度的相位臺階或連續浮雕,是賦予激光"智慧光束"的制造基石。DOE加工的核心是多階相位延遲控制。對于常用的二元光學DOE,相位延遲φ(x,y)=2π(n-1)d(x,y)...

    2026

    6-5

  • 使用納米壓印膠有哪些細節

    納米壓印膠是納米壓印技術的核心材料,主要用于將模板上的納米級圖案轉移到基底表面,廣泛應用于光電子器件、生物芯片、微流控等領域。其性能直接影響圖案保真度、殘留層厚度及脫模成功率。本文從材料選擇、預處理、涂覆工藝、壓印參數、固化控制、脫模技巧六個維度,系統闡述納米壓印膠的使用細節。一、材料選擇與特性匹配1.膠水類型與適用場景-熱塑性樹脂(如PMMA):需加熱至玻璃化轉變溫度(Tg)以上軟化流動,適用于高溫耐受性要求低的場景,但冷卻收縮易導致圖案畸變。-紫外固化膠(UV-curab...

    2026

    3-17

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